高端集成电路制造下的机遇和挑战
随着近些年国内集成电路产业的高速发展，同步拉动我国集成电路行业所需的电子化学品市场需求。但与持续高速增长的集成电路产业相比，相关电子化学品的技术水平和产业规模均较小，自给率仍较低。尤其先进封装和芯片制造配套的支撑产业——半导体材料业的技术水平和产业规模发展滞后，对国内半导体相关产业发展的制约作用仍然十分明显。
尤其是在当下，我国集成电路晶圆制造产业化技术已进入到14nm技术节点，因此高端集成电路制造所需要的193nm干法光刻胶及配套材料与产业发展现状、发展趋势吻合。在应对高端光刻胶材料及配套材料设计和生产制造方面，国内现有的光刻胶材料制造企业技术水平较低，经验不足高端光刻胶材料的供应仍以进口为主，国内市场面临的机遇和挑战并存。
受益于国家产业政策支持，未来集成电路产业将会成为国家的战略性基础产业。5G、物联网等新技术应用以及国内庞大的终端产品消费市场持续增长等有利因素影响下，全球产能向国内转移，从而为集成电路材料发展带来巨大机会。在国内建设独立、自主、可控的集成电路材料产业链，鼓励国内半导体材料国产化的政策导向下，本土半导体材料企业必将迎来更为广阔的发展空间。
光刻胶市场，日本霸主地位难以动摇
当前，全球主要集成电路光刻胶供应商市场份额排行中，日本的霸主地位难以动摇。日本不仅具有十分完善且成熟的集成电路产业链，还有很多公司积极从事光刻胶的研发工作。目前，比较出名的日本光刻胶企业有：
东京应化工业株式会社
东京应化工业株式会社成立于1940年，主营业务包括光刻技术、半导体制造、半导体封装、微机械制造、3D封装、LCD制造等。东京应化工业株式会社是全球光刻胶供应商领导者，其光刻胶相关产品在全球市场份额中位居前列，是业界公认光刻胶类产品实力最强的跨国公司之一。
信越化学工业株式会社
信越化学工业株式会社成立于1926，其自行研制的金属硅、有机硅、聚氯乙烯、纤维素衍生物、高纯度稀土、稀土磁铁等原材料被广泛应用在电子、电气、汽车制造、机械制造、化工、纺织、食品工业以及建筑工程领域，并在所有产业方面提供了高附加价值的产品。
日本合成橡胶公司
日本合成橡胶公司成立于1957年，成立初期主要经营各种橡胶材料。于1979年进军电子材料领域，公司于1982年开始经营PFR正性光刻胶。1999年公司开始生产极紫外光刻胶。2006年与IBM合作开发出低于30nm的ArF浸没式光刻技术。日本合成橡胶公司光刻胶技术面较宽，涉及光刻胶的种类有G、I线胶，KrF、ArF、ArF浸没式、远紫外（EUV）、X射线、纳米压印光刻胶，定向自组装（DSA）光刻胶，彩色滤光片用光刻胶等。
