近日，上海新阳半导体发布公告，公布了购买ASML－1400光刻机的最新进展，目前已经进入北方集成电路技术创新中心有限公司的场地。
据悉，上海新阳半导体因193nmArF干法光刻胶的项目研发，购买了ASML－1400光刻机等核心设备。之前有消息称，设备将于2020年底到达国内，但是由于运输和安装问题，并没有按时到达。
之后，上海新阳半导体与北方集成电路技术创新中心积极沟通下，目前已经到达北方集成电路现场，后续还会进行安装调试等相关工作。
上海新阳半导体表示，“采购的ASML干法光刻机设备顺利交付，对加快193nm ArF干法光刻胶产品开发进度有积极影响，有利于进一步提升公司光刻胶产品的核心竞争力，加快落实公司发展战略，提高公司抗风险能力和可持续发展能力。”
