1、传英特尔拟收购SiFive
据报道，芯片企业Sifive获得收购意向，英特尔提出超过20亿美元（约合127亿元人民币）的收购要约，Sifive与若干潜在的顾问磋商。知情人士透露，目前谈判还处在早期阶段，尚不能保证一定会达成协议，SiFive可能会选择保持独立。此外，也有多家公司表态愿意投资SiFive，而这一选择可能更具备可操作性。
SiFive成立于2015年，是全球首家基于RISC－V架构的半导体企业，该公司试图将开源标准引入半导体设计领域，使其价格更为低廉，从而更易被客户所接受。在2020年，SiFive曾6100万美元的E轮融资，由韩国SK Hynix领投，新投资者Prosperity7 Ventures和现有投资者Sutter Hill Ventures、西部数据的风险投资部门、高通风险投资基金（Qualcomm Ventures）、Intel Capital、Osage University Partners和Spark Capital参投，其当时的估值约为5亿美元。
SiFive正在使用RISC－V架构设计计算核心，提供芯片核心IP。虽然这些核心的底层架构是开源的，但特定的核心设计本身可以出售。该公司试图将开源标准引入半导体设计领域，使其更便宜、更容易为客户所接受。迄今SiFive已与多家国际知名半导体厂商建立深度合作关系。
OFweek点评：如果SiFive同意英特尔提出的条款，这将是英特尔近年来最大的一笔收购。对于英特尔而言，收购SiFive可以给他们带来一个知识产权库，它既可以用在自己的芯片上，也可以向未来的客户提供许可。
2、华为注册鸿鹍商标
（截图源自企查查）
据企查查显示，近日，华为技术有限公司申请注册“鸿鹍”商标，国际分类为科学仪器、网站服务。目前商标状态为申请中。
不少网友对此感到好奇，难道是“鸿蒙”＋“鲲鹏”的结合体？
值得一提的是，华为此前曾申请注册过多个“神兽”名称商标，比如腾蛇、白虎、朱雀、灵豸、灵犀、鸿雁、凤凰、饕餮等等。
OFweek点评：这是华为与“山海经”的故事。
3、中科院上海光机所计算光刻技术研究取得进展
中科院网站消息中国科学院上海光学精密机械研究所信息光学与光电技术实验室提出一种基于虚拟边（Virtual Edge）与双采样率像素化掩模图形（Mask pixelation with two－phase sampling）的快速光学邻近效应修正技术（Optical proximity correction， OPC），仿真结果表明该技术具有较高的修正效率。
OPC技术通过调整掩模图形的透过率分布修正光学邻近效应，从而提高成像质量。基于模型的OPC技术是实现90nm及以下技术节点集成电路制造的关键计算光刻技术之一。上海光机所科研人员提出的这种基于虚拟边与双采样率像素化掩模图形的快速光学邻近效应修正技术，能够将不同类型的成像失真归结为两种类型的成像异常，即内缩异常与外扩异常。利用不同的成像异常检测模板，依次在掩模图形的边缘和拐角等轮廓偏移判断位置进行局部成像异常检测，确定异常类型及异常区域的范围。根据异常检测位置与异常区域范围，自适应产生虚拟边。通过移动虚拟边调整掩模的局部透过率分布，从而修正局部成像异常。借助修正策略和修正约束，实现高效的局部修正和全局轮廓保真度控制。另外，双采样率像素化掩模充分利用了成像系统的衍射受限属性，在粗采样网格上进行成像计算与异常检测，在精采样网格上进行掩模修正，兼顾了成像计算效率与掩模修正分辨率。利用多种掩模图形进行验证，仿真结果表明该OPC技术的修正效率优于常用的基于启发式算法的OPC技术。
OFweek点评：OPC技术的提出被认为是推动集成电路芯片按照摩尔定律继续发展的新动力。光刻技术一直是国内在芯片制造上的短板之一，希望本次研究的进展能给国产芯片事业带来更多助力。
