8月5日晚，中芯国际发表了2021年Q2财报，营收13．4亿美元，同比增长43．2％，环比增长21，8％，归母净利润为6．88亿美元，环比增长332．9％，同比增长398．5％。
在财报电话会上，中芯国际联席CEO赵海军也透露了公司的先进工艺的情况，表示“我们的FinFET工艺已经达产，每月1．5万片，客户多样化，不同的产品平台都导入了。（这部分）产能处于紧俏状态，客户不断进来。”
根据之前的报道，中芯国际的FinFET工艺有多种类型，其中第一代FinFET工艺是14nm及改进型的12nm，目前1．5万片产能的主要就是14／12nm工艺，第二代则是n＋1、n＋2工艺，已经试产，但产能不会有多大。
根据中芯国际联席CEO梁孟松博此前公布的信息显示，N＋1工艺和现有的14nm工艺相比，性能提升了20％，功耗降低了57％，逻辑面积缩小了63％，SoC面积减少了55％。
从逻辑面积缩小的数据来看，与7nm工艺相近。
梁孟松博士也表示，N＋1代工艺在功耗及稳定性上跟7nm工艺非常相似，但性能要低一些（业界标准是提升35％），所以中芯国际的N＋1工艺主要面向低功耗应用的。
而在N＋1之后，中芯国际还会有N＋2，这两种工艺在功耗上表现差不多，区别在于性能及成本，N＋2显然是面向高性能的，成本也会增加。
此外，梁孟松还透露，中芯国际的28nm、14nm、12nm、N＋1等技术均已进入规模量产，7nm技术开发已经完成，今年4月可以进入风险量产，5nm、3nm最关键也是最艰巨的8大项技术也已经有序展开，只等EUV极紫外光刻机到来，就可以进入全面开发阶段。
作者：宪瑞来源：快科技
