众所周知，目前全球最牛的光刻机厂商就是荷兰的ASML了，全世界仅有它一家能够生产EUV光刻机，而EUV光刻机是10nm以下芯片制造中必不可少的设备。
可以说ASML紧紧的扼住了全球芯片制造企业的喉咙，只要它不卖EUV光刻机给对方，对方的工艺就只能停留在10nm以上。
事实上，在20年前，ASML其实是一家名不见真传的小企业，和日本的尼康、佳能比起来，真的就是个小作坊，那么为何最终是它胜出，一家独大，然后让尼康、佳能变成了二流光刻机企业了呢？
事实上，这与ASML成长过程中的两个转折点有关，也正是抓住了这机会，在这两次转折点中，都站对了位置，才有今天的ASML。
第一次是2004年左右，当时业界采用的光刻机光源是193nm波长的，采用的是干刻法，接下来要提升光源到157nm波长，这样精度更高，但困难非常大。
这时候台积电表示，光源还可以使用193nm波长的，但换个介质试试，不要用空气当介质了，用水当介质，而光源在通过水时，会产生折射，这样193nm波长的光源，实际效果可能比157nm的波长还要好呢？
尼康、佳能认为这不实际，不如研究157nm光刻机好了，而ASML觉得自己反正就是小企业，不如陪台积电试一下，万一成功了呢？
于是ASML成功了，采用水当介质的浸润式光刻机火了，成功的把精度再提高了，且成本低，研发快，仅仅5年时间，ASML就拿下了全球一半多的市场，后来尼康、佳能想要跟进，已经迟了。
第二次机会是2015年，当时浸润式光刻机已经发展到极限了，接下来研究的方向采用波长为13．5nm的极紫外线，制造EUV光刻机。
并且这时候，英特尔牵头搞了一个前沿组织EUV LLC，就是研究这些的，于是ASML加入了进来，并且ASML很聪明，觉得如果自己搞出这样的光刻机，可能会被美国忌惮，于是让出了自己的股份，让英特尔、台积电、三星等都成为自己的股东。
这样不仅打消了美国的在顾虑，还赢得了客户、盟友，也得到了众多的技术支持，于是顺利的推出了EUV系列光刻机，还不愁卖，也不怕美国制裁它，如今ASML是真的在EUV光刻机上一家独大，真正的垄断市场了。
