5月24日消息，日前上海新阳在业绩说明会上表示，公司光刻胶ArF、ArF－i研发进展顺利，已经形成两个系列试验产品，样品已经进入客户端进行测试。由于测试耗时比较长，近期不会有销售的发生，但是产品总体技术的指标还都比较不错，我们现在对这方面也比较有信心。
此外，公司2021年完成了几款KrF光刻胶产品的研发、验证并实现销售，在手订单中含有国内主流头部芯片制造公司等大小客户，覆盖铝线制程和铜线制程，用于逻辑、模拟等芯片的生产制造。由于客户对于光刻胶的使用都会比较谨慎，目前还都是小批量使用，所以今年的销售额可能不会很大，但明年用量可能会增加较多，后续增长空间较大。
众所周知，光刻胶是芯片关键材料中的重点所在，光刻胶是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。
光刻胶一般由聚合物骨架、光致酸产生剂或光敏化合物、溶剂，以及显影保护基团、刻蚀保护基团等其他辅助成分组成。光刻胶是微电子技术中微细图形加工的关键材料之一，特别是近年来大规模和超大规模集成电路的发展，更是大大促进了光刻胶的研究开发和应用。
一直以来，光刻胶都是芯片关键材料中的重点所在，由于国内光刻胶领域起步较晚，技术严重落后等原因，导致我国半导体芯片领域的光刻胶需求主要由外资企业来满足，日美厂商占据了约87％的份额，国内光刻胶产品进口比例高达九成。
如今上海新阳的KrF光刻胶产品成功打入国内主流芯片公司，意味着国内光刻胶产业再获得重大突破，实现国产替代指日可待。
