据路透社报道,半导体设备巨头ASML的新一代High-NA EUV设备订价约4亿美元(折合27亿人民币)。
相比之下,上一代EUV光刻机售价大约1.2亿美元,意味着新一代光刻机售价提升了两倍多。不过新一代光刻机设备精密度更高、所使用的零部件更多,机型比上一代大出30%,如同双层巴士大小。
据悉,ASML原型机将在2023年上半年完成。目前公司对外表示,2021年第四季度已收到5个预定High-NA EUV的订单。
至于新一代光刻机的首批用户是谁也不难猜想,目前台积电、三星是全球仅有的能在先进工艺制程上一较高下的对手。
根据规划,台积电、三星都计划在今年下半年量产3nm工艺,目前它们所采用的EUV光刻机为第一代,据称第一代EUV光刻机生产3nm已几乎达到极限,它们研发更先进的2nm乃至更先进的工艺就需要采用ASML最新的High-NA EUV光刻机。
随着订单的增多,接下来几年相信ASML也会很忙。在今年Q1财报会议上,ASML表示,随着第二季度芯片制造设备的市场需求超过供应量,将上调长期营收预期,维持今年20%的营收增幅和55台极紫外光科技的产能预期不变,并表示,2025年将能生产70多部极紫外光刻机。
