近日ASML高管表示摩尔定律依然生效,依靠现有的EUV光刻机等技术可以进一步将芯片制造工艺推进1纳米,此言论是它在一季度营收下滑19%、净利润几乎腰斩之后发出的,这可能是因为它忧虑芯片制造市场发生变化而给业界描绘的大饼。
如今的ASML依然是活得很滋润的,全球芯片制造企业依然在抢购它的光刻机,不仅它的新光刻机广受欢迎,甚至供不应求,二手光刻机同样极受欢迎,尤其是中国芯片企业的抢购,导致日本的二手光刻机涨价三倍。
不过由于光刻机的价格实在太昂贵,导致不少企业颇有微词,其中日本芯片企业最先发起挑战,铠侠联合日本的芯片设备企业研发的NIL工艺已舍弃了光刻机,据日媒的消息指使用NIL工艺可以大幅降低成本,因此铠侠对于NIL工艺颇为满意,预期该项工艺可以延伸至5纳米。
北方某国因为当下的境况难以买到光刻机,因此决定研发全新技术的光刻机,正研发X射线光刻机,X射线的波长比极紫外线的波长更短,如果这项技术获得成功可以达到更高的精度、同时也可以大幅降低成本。
中国由于种种原因难以买到EUV光刻机,不过中国芯片制造可以DUV光刻机生产7nm工艺,然后再辅以芯片叠加技术取得相当于5nm工艺的性能,而中国已是全球最大的芯片设备市场,如果中国对光刻机的需求下滑,那么对ASML将是重大打击。
ASML更担忧的是光刻机三大客户台积电、Intel和三星对光刻机的需求可能下滑,台积电已表示在3纳米工艺之后,2纳米乃至更先进的工艺开发将面临困难,因此它们都将延迟更先进工艺的研发,如此它们对EUV光刻机的需求将下滑。
可能ASML正是因为担忧光刻机的需求在未来出现下滑,因此发出了这番言论,以鼓励投资者,同时为芯片制造企业打气,毕竟它的业务非常单一,光刻机是唯一的产品,如果光刻机的需求下滑,那么它将大伤元气。
其实ASML当下面临的压力已不仅是光刻机市场可能发生的变化,芯片市场也正从供给不足向供给过剩转变,早前它就说全球芯片供给不足将延续,然而知名苹果分析师郭明錤和Gartner都给出了不同预测,郭明錤表示目前手机芯片市场已出现过剩迹象,Gartner则认为下半年或明年将开始出现芯片过剩。
芯片出现过剩意味着当下正大举推进的芯片产能扩张将会暂停,对光刻机的需求将立即出现下降,可能ASML也正是因为担忧光刻机的需求下滑,因此不断发出正面信息,既是鼓舞自己也是为了提升投资者信心。
无论如何,这两年全球芯片市场已发生重大变化,这已对全球芯片产业链造成了巨大的冲击,这种变化为ASML带来了这两年的好日子,但是同样也是因为这种变化必将对ASML的光刻机造成深远的影响,继续维持这种好日子实在不太现实。
原文标题 : 业绩下滑的ASML忧虑市场变化,给业界描绘了1纳米的大饼