近期美国商务部副部长与光刻机制造商ASML共同宣布ASML将斥资2亿美元扩建后者位于美国康涅狄格州威尔顿的光刻机工厂,ASML此前确定将第一台High-NA EUV光刻机--第二代EUV光刻机,第二代EUV光刻机是生产2nm乃至1nm级别工艺的关键设备。
目前美国芯片企业Intel与台积电就先进工艺的竞赛正进行得如火如荼,台积电预计今年下半年量产3nm工艺,但是随着知名苹果分析师郭明錤指苹果的A16处理器将继续采用台积电的N5P工艺而不是3nm工艺,意味着台积电的3nm工艺量产已遇到麻烦。
Intel则宣布今年下半年量产Intel 4工艺,由此Intel在先进工艺制程方面正进一步缩短与台积电的差距,两者的较量将在2nm以及1nm级别决出胜败。
此前台积电曾表示在量产3nm工艺后,2nm乃至更先进的工艺研发将可能被推迟,2nm工艺最快也得在2025年量产,但是Intel迅速宣布Intel 18A工艺将在2025年量产,台积电不甘示弱--宣布它的3nm工艺团队立即投入研发1．4nm工艺,以保持在先进工艺制程方面的领先优势。
如今决定Intel和台积电两家芯片制造企业的1nm级别工艺量产时间的关键就在于ASML第二代EUV光刻机了,然而从美国派出商务部副部长如此高级版的官员与ASML宣布合作来看,可以看出美国对于推进1nm工艺的量产志在必得,对于台积电将颇为不妙。
如今的台积电已受到美国方面的严重掣肘,它有近七成营收来自美国芯片企业,而一些关键技术也来自于美国,由此去年它在多番挣扎之后最终还是向美国交出了机密数据,凸显出它的无奈。
为了争取美国的支持,台积电也做出了努力,按照美国的要求如期在美国设厂并引入它当下最先进的5nm工艺,然而美方却对此前承诺的提供高额补贴的计划迟迟未落实,对台积电的态度似乎已发生变化。
其中最显著的变化就是在美国的影响下ASML最终决定将第一台第二代EUV光刻机交付给Intel,同时美方可能将520亿美元补贴用于扶持美国本土芯片企业;近期美方相关人员在访问亚洲的时候参观了三星的3nm工厂,却没到访台积电的3nm工厂,这都显示出美国态度的微妙。
或许此刻的台积电已后悔当初遵从美国的要求,停止为华为代工生产芯片,随后更导致众多中国大陆芯片企业撤单,中国大陆芯片企业为台积电贡献的营收也迅速从22%暴降至6%,在台积电如此合作的情况下却换来美国如此态度。
台积电相关人员如今也有些变化,台积电创始人张忠谋以及董事长刘德音都先后对当下正推进的美国工厂发出了一些声音,张忠谋指出美国制造的成本太高导致它并不适合发展芯片制造,与此相印证的则是Intel最先进的Intel 4工艺工厂也设在爱尔兰而不是美国本土,都在提醒着美国发展先进工艺所面临的成本问题。
台积电对当下美方的态度变化也做出了相应的转变,今年一季度它在芯片产能依然紧张的情况下释放了部分先进工艺产能给中国大陆芯片企业,由此中国大陆芯片行业给台积电贡献的营收已达到11%,较去年的6%大幅增长,似乎台积电希望借力中国大陆芯片行业制衡美国芯片。
如今中国大陆已是全球最大的芯片市场,对先进工艺产能确实有很强烈的需求,中国大陆芯片行业在AI、物联网等新兴科技领域也取得了部分优势,具备与美国芯片行业竞争的部分实力,可以说中国大陆芯片和台积电合作将是共赢。
原文标题 : 美国强化扶持本土芯片制造，台积电悔不当初，指望中国芯片了
