近日，韩媒报道称，韩国企业石墨烯实验室 （Graphene Lab） 开发出了基于石墨烯制造的EUV光罩保护膜 （Pellicle） 。
而使用这种EUV光罩保护膜后，在使用EUV光刻机进行芯片的生产时，有望显著提高生产芯片的良率。
一时之间，引发无数人的关注，毕竟良率现在是悬在台积电、三星等晶圆厂身上的利剑，并且是工艺越先进，良率越低。
比如之前就有媒体报道称，三星的5nm、4nm工艺，其良率低到离谱，甚至只有30％左右，让高通都受不了了，不得不转单台积电。
而一旦能够大幅度提升良率了，像三星这样的晶圆厂岂不是求着买？提升良率就是降低成本，提升竞争力啊。
那么问题来了， 石墨烯EUV光罩保护膜到底是什么膜，为何会有这个效果？
我们知道，在芯片制造中，EUV光刻机的作用是将光掩膜板上的电路图，通过EUV光线，刻录到涂了光刻胶的硅晶圆上。
这是至关重要的一部分，光掩膜板也是芯片流片中最贵的一部分，一个7nm的光掩膜板成本迅速升至1500万美元。
而光掩膜板上面，有一层保护膜，保护光罩表面免受空气中微分子或污染物的影响，以及保护当EUV光线刻录时带来的影响。
以有这层膜用的是硅材料制造的，现在韩企用的是石墨烯来制造这次保护膜，也就是石墨烯EUV光罩保护膜。
石墨烯性能更好，能承受更高的温度，同时有更高的硬度，更佳的透度，所以当EUV光线进行光刻时，能够降低误判，从而提升良率。
Graphene Lab表示，他们的这种石墨烯EUV光罩保护膜很快就会量产，如果真的这么神奇，那么像三星、台积电、intel等厂商肯定会抢着要，那当前的光罩保护膜市场，甚至晶圆市场格局都可能会因此而改写。
原文标题 : 韩企研发出石墨烯EUV光罩保护膜，能大幅度提高5nm芯片良率
