众所周知，全球能够生产芯片光刻机的厂商只有四家，分别是荷兰的ASML，日本的尼康、佳能，中国的上海微电子。
其中ASML的技术最强，是唯一能够和生产EUV光刻机的厂商，目前精度已经支持到3nm。接着是尼康，其浸润式光刻机，分辨率可达到7nm及以下。
再是佳能，其干式光刻机，可实现55nm及以上的分辨率，上海微电子也是干式光刻机，分辨率标注为90nm。
不过近日，有网友表示，全球第五家光刻机厂商诞生了，并且还是一家中国大陆的厂商，一时之间让大家兴奋不已，毕竟目前在半导体设备领域，我们最落后的就是光刻机了，有了突破必须兴奋啊。
这家厂商叫大族激光，是国内顶尖的激光设备龙头，在全球激光设备企业中，Trumpf营收、利润规模第一，大族激光营收、利润规模排名第二。
大族激光在互动平台中表示，公司的光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率3－5μm；其中，接近式光刻机已投入市场，步进式光刻机已启动用户优化。
这基本上就证实了大族激光拥有自己的光刻机，所以网友们当然很兴奋了， 虽然接近式（也称接触式）、步进式光刻机技术相对于上海微电子还比较落后，但也是光刻机啊。
我们先说一个技术上的常识，光刻机在曝光方式上可以分为三类：接触式光刻机、接近式光刻机和投影式光刻机。
像前面提到ASML、尼康、佳能、上海微电子这四大，均使用的是投影式光刻机，目前已经第4代。
但其实目前像能够生产接触式、步进式光刻机的厂商还有很多，这些分别是第一、二代光刻机。只是这些光刻机，生产的芯片工艺很是成熟，大多都是μm级别，达不到nm工艺，所以大家习惯性的不说这些光刻机。
故，大族激光也表示，自己的光刻机项目主要应用在分立器件领域，分辨率为3－5μm。所以这种光刻机，并不是大家想的能够制造高端芯片的光刻机，也并不是当前的主流芯片制造的光刻机，大家不必太激动。
当然，任何技术都是从低端开始的，大族激光虽然现在只能够生产接触式、接近式光刻机，说不定后续也能够生产浸润式、EUV光刻机呢，所以我们还是可以报以极大的期待的。
原文标题 : 又一家中国大陆厂商，生产出光刻机？精度为3μm？
