扩大到45nm工艺?日本的半导体限制令,比美国还要狠

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众所周知,前段时间有媒体报道称,美国联手日本、荷兰,对中国的半导体进行围堵。

后来日本在4月份,正式提出了半导体限制令,针对23种半导体设备进行了限制,涉及到3项清洗设备、11项薄膜沉积设备、1项热处理设备、4项光刻设备、3项刻蚀设备、1项测试设备。

当时说的是,最快这项政策可能会在7月份执行。而昨天这项法规正式通过了,在7月23日起正式执行。

被日本列入管制的这23个种类,不管对哪一个国家和地区,只要出口,都需要日本政府给的单独许可证才能出口,日本表示,这不是特意针对哪一个特定的国家和地区,所有国家都一样的。

但明眼人都清楚,这不可能针对美国吧,针对的当然是中国、俄罗斯等美国要打压的国家,因为日本是美国的小弟,听的就是美国的话。

并且日本的这个限售令,与ASML的光刻机不一样,ASML只针对先进工艺,其浸润式光刻机中,只有NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制。

而像NXT:1980Di 这样的浸润式光刻机,还可以出口,它可以最高用于7nm芯片的光刻。同时美国针对中国的半导体产业,更多的还是只针对14nm以下的先进工艺。

但是日本的这23个种类的产品中,已经涉及到45nm工艺了,比ASML、美国的限售令,更为严格和范围广。

当然,日本也没说不能卖,只是说想从日本进口这些设备,需要单独的许可证,需要日本政府的审批才行,但能不能拿到许可证,还不是日本说了算?

 这对于中国的半导体产业而言,将会是一个巨大的隐患,毕竟以往我们从日本进口的半导体设备,就牵涉到了这23项中的许多项,以后进口就没这么容易了,能不能买到,都是未知数了,可见半导体设备、半导体材料,我们都需要独立自主才行,依赖其它国家都不行。

       原文标题 : 扩大到45nm工艺?日本的半导体限制令,比美国还要狠

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