在芯片制造领域，与传统光刻技术相比，纳米压印技术具有生产效率高、制造成本低等优势，可用于制造DRAM、3D NAND等各种储存芯片。
纳米压印技术（NIL）指将模板上的微纳结构转移到待加工材料上的技术，属于新型微纳加工技术。纳米压印技术具有工艺简单、产量高、生产成本低、适合工业化生产等优势，在DNA测序、LED显示、传感器、生物细胞培养膜、芯片制造、光子晶体等领域拥有广阔应用前景。
纳米压印技术通常可分为软刻蚀技术、热压印技术、紫外固化压印技术三种。软刻蚀技术可细分为毛细微模塑、微接触印刷、转移微模塑、复制模塑、热压注塑、溶剂辅助微模塑等；热压印技术又称热纳米压印技术，指在加热加压条件下，利用压印机完成压印操作，进而制得压印胶图案；紫外固化压印技术指利用紫外光照射使压印胶固化，进而达到转移图案的目的。
纳米压印技术研究起步于上世纪九十年代，经过多年经验积累，其应用范围不断扩展，在DNA测序、LED显示、传感器、生物细胞培养膜、芯片制造、光子晶体等领域拥有广阔应用前景。在芯片制造领域，与传统光刻技术相比，纳米压印技术具有生产效率高、制造成本低等优势，可用于制造DRAM、3D NAND等各种储存芯片。
近年来，受益于芯片行业发展速度加快，纳米压印技术应用前景持续向好，其未来有望代替传统光刻技术，成为芯片制造核心技术。根据新思界产业研究中心发布的《2023-2028年中国纳米压印技术（NIL）行业市场深度调研及发展前景预测报告》显示，2022年全球纳米压印技术市场规模达到22.9亿美元，同比增长13.6%。预计未来一段时间，伴随应用需求增长以及相关企业及科研机构不断加大研究投入力度，纳米压印技术商用化进程将进一步加快。
与海外发达国家相比，我国纳米压印技术行业起步较晚，但发展势头迅猛，目前已有众多企业布局其研发赛道。深圳利和兴股份有限公司、苏州苏大维格科技集团股份有限公司、浙江奥翔股份有限公司、长春高新产业（集团）股份有限公司、歌尔股份有限公司等为我国纳米压印技术市场主要参与者。
新思界行业分析人士表示，随着下游需求增长，纳米压印技术行业发展速度加快。纳米压印技术种类丰富，能够根据模具、压印面积以及固化方式等划分成不同类型。近年来，纳米压印技术在芯片制造领域应用前景较好，带动其市场空间不断扩展。未来伴随本土企业自主研发实力提升，我国纳米压印技术将得到进一步突破。
原文标题 : 【洞察】纳米压印技术（NIL）在芯片制造领域应用前景较好 我国市场参与者众多
