美国泛林集团,侵犯国产刻蚀机商业秘密,被正式确认

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众所周知,在半导体设备领域,我们是相当落后的,特别是光刻机,落后ASML应该有10年甚至落后更久。

也因为在半导体设备领域的落后,所以美国一直对中国半导体进行打压,利用的就是设备这一块,毕竟美国在半导体设备上,有着绝对的垄断权。

不过有一种产品,美国从不限制出口,那就是刻蚀机,哪所是3nm的刻蚀机,美国也不会禁令美国企业出口到中国来。

原因是中国有自己的刻蚀机,并且是全球最先进的,可以同步达到5nm、3nm水平,美国禁令美国的先进刻蚀机销量,那就是在给中国的刻蚀机让出市场,所以美国不禁刻蚀机。

而中国最先进的刻蚀机,是中微半导体生产出来的,创始人是尹志尧博士,于2004年创立。

尹博士在创立中微之前,在英特尔、泛林、应用材料等企业均工作过。

英特尔是芯片企业,而应用材料是全球最大的,最先进的刻蚀厂厂商,泛林也是全球最大的半导体设备厂商之一,所以尹博士在这些企业工作,积累了大量的经验,人脉,技术。

媒体报道称,尹志尧个人在半导体行业拥有86项美国专利和200多项各国专利,被誉为“硅谷最有成就的华人之一”。

他个人是功成名就了,但他看到中国在半导体设备领域落后,于是于2004年带着钱,带着一批精英人才回国(据称第一批是15个),创办了中微。

而在2007年,就研发出了第一代介质刻蚀机,并且全球首次采用可单台独立操作的双反应台,效率甚至比国外同类产品还要高30%。

这让美国企业坐不住了,生怕中微抢自己的饭碗,于是在2009年1月,泛林集团指控中微公司的等离子蚀刻机侵害它的权利,并在台湾发起诉讼。

没想到的是,台湾法院没让在他这一边,驳回了泛林的诉讼,并认定泛林集团主张遭到侵害的是无效的,粉碎了泛林的阴谋。

而后中微发现,泛林集团在参观中微时,非法获取了中微公司机密的技术文件,和机密的反应腔内部照片。

于是在2010年,中微向上海市第一中级人民法院提起诉讼,主张泛林集团侵犯中微公司的商业秘密,并在对簿公堂之后,双方你来我往6年多之后,于2017年3月赢得一审诉讼。

但泛林不服,继续上诉至上海市高级人民法院,然后又经历了6年时间,近日正式宣判,泛林集团确认侵犯中微商业秘密,中微公司获得二审胜诉。

可见,商业从来就是残酷的,不仅有技术上的竞争,还有各种阴谋诡计,幸好中微公司几次都打赢了官司,否则只怕市场都要被影响。

接下来,希望其它国产半导体设备,也像中微公司一样,达到5nm、3nm,那么芯片禁令也就不攻自破,再也卡不住了。

       原文标题 : 美国泛林集团,侵犯国产刻蚀机商业秘密,被正式确认

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