众所周知，以前美国是不准EUV光刻机卖到中国来，其它的光刻机不受限。
后来在去年10月份，将光刻机禁令升级了，规定光刻机如果采用193nm波长的光源，且分辨率小于45nm时，其光刻机套刻精度的DCO值小于1.5nm时， 不准出口。
按照这个规定，ASML的浸润式光刻机中，还有NXT:1980Di可以出口，因为它的DCO值是1.6nm。
而在8月份，华为Mate60 手机横空出世，搭载了麒麟9000S芯片，这颗芯片采用的是等效于7nm的工艺，很多人认为，这是浸润式光刻机经过多重曝光生产出来的。
于是在今年10月17日，美国升级光刻机禁令，规定193nm波长的光源，分辨率小于45nm时，其DCO值小于2.4nm，就不能出口，相当于将唯一的一台浸润式光刻机，也堵住了。
这对于ASML而言，肯定是大事，毕竟中国大陆的市场，是ASML无法放弃的市场。2022年，中国从ASML买了大约100台光刻机，价值高达200多亿。
而2023年前三个季度，ASML就向中国卖了53亿欧元的光刻机，价值400多亿，是去年全年的2倍多，第三季度的时候，中国大陆贡献了ASML营收的46%。
这样的市场，ASML怎么舍得？再说了，ASML担心一旦它的光刻机不卖到中国市场，中国会自己研发出来，那么就没ASML什么事了。
所以近日有消息称，ASML看到NVIDIA刀法如神，每次都能按照美国的禁令，进行精准阉割，推出不违反禁令，又能卖到中国大陆市场的GPU芯片之后，有了谁启发，决定对其光刻机也进行阉割。
按照禁令，浸润式光刻机，采用193nm波长的光源，分辨率小于45nm，但只要DCO值大于2.4nm即可销量，小于2.4nm就不能销售。
所以ASML计划将现有的浸润式光刻机进行调整，光源不变，分辨率不变依然保持38nm，但DCO值调整，让其变成2.4nm以上，这样就可以出口了。
而DCO值调整之后，对芯片制造的分辨率有一定的影响，比如生产先进芯片时，有可能会影响到良率，效率等，但至少已经不受限制了。
浸润式光刻机，与非浸润式光刻机相比，就算DCO值变成2.4nm+了，工艺也会先进很多，目前中国大陆无法生产出浸润式光刻机，上海微电子的工艺还在90nm，这样阉割的浸润式光刻机，依然大有市场。
当然，以上只是传闻，会不会如此，还不清楚，但参照Nvidia迅速推出中国特供版本GPU芯片来看，ASML这么干，也非常有可能，你觉得呢？
这样的光刻机，我们买不买？不黑不吹，在自己没有浸润式光刻机之前，只能买，毕竟它还是比普通干式光刻机强很多的，所以关键还是国产光刻机突破。
原文标题 : 绕过美国禁令，ASML或阉割浸润式光刻机精度，特供中国？
