前言：
近日，日本媒体报道称，尼康公司计划扩大与中国市场的业务合作，以增加其光刻机在中国市场的份额，并可能开发新产品，将其投入中国市场。
尼康此举的原因是趁当前ASML光刻机处于敏感时期，试图抢占部分市场份额。
作者 | 方文三
图片来源 | 网 络
尼康早已远离高端光刻机市场
过去中国主要进口ASML的光刻机，市场份额超过90%。
在超高端领域，即极紫外（EUV）光刻机，目前只有ASML能够生产。
从2022年的光刻机销量来看，排在首位的ASML的全球市场份额为62%，排在第2位的佳能为31%，尼康排在第3位，仅为7%。
加之目前日本已经禁止了包括微影曝光、沉积和清洁在内的23种高效能的半导体器件等六大类别的23种产品；
荷兰也对高端光刻机实施了严格控制，三年前开始，他们就和中芯公司签订了EUV光刻机的合同。
受光刻机业务严重下滑的影响，尼康的净利润出现了近八成的暴跌，这凸显出该公司在很大程度上依赖于光刻机业务所带来的利润。
随着数码相机市场逐渐衰落，尼康的影像技术在其他领域的发挥空间已经变得相对有限，而光刻机成为了其重要的市场。
尼康的浸润式光刻机主要销售的是KrF和ArF光刻机、i线和G线等成熟型号的光刻机，主要用于制造45nm及以上的芯片。
尼康之前的光刻机主要供货英特尔。但去年日媒报道，尼康宣布要大举扩大光刻机产能，提高到目前的3倍以上，并减少对英特尔的依赖，加大大陆市场布局。
布局浸入式光刻机新品，意在中国市场
尼康高管已经正式公布了进军中国市场的消息，并计划到2026年将其对中国的光学设备出口量提高三倍。
这一举措反映了尼康对中国市场的重视，并希望通过扩大合作来进一步巩固和拓展其在该领域的影响力。
根据尼康透露，它所要布局的NSR-S635E ArF 浸入式光刻机与ASML的EUV光刻机不同：
使用DUV光源就可以加工5—7纳米的芯片，每小时可以制造275片晶圆，并且不使用美国技术。
尼康公司目前不具备5-7nm芯片的技术能力，因此在中国市场的竞争力受到一定限制。
而尼康则可以制造浸润式光刻机，因此其理论上可以达到最高精度为7nm的制造水平。
然而，尼康仍有实力争夺中国的DUV光刻机市场，这也是一个翻盘的机会。
中国如果与尼康保持一定的合作关系，可以制衡ASML，并进一步扩大美国与ASML之间的裂痕与分歧。
此外，日本尼康基于自己的市场需求要布局中国市场。
然而，尼康能够出口给中国的设备与技术无疑非常有限，也基本都是非常成熟的老旧设备。
这对解决中国缺少核心光刻机设备的现实困境帮助非常小
中国对7纳米及以下的高端光刻机需求量仍然非常大，但这方面的缺口很难依靠日本的进口来解决。
发布光刻系统新技术，意在弯道超车
尼康于今年8月宣布，计划于2024年夏季左右发布25年来首次将投影倍率降低至5倍的i-line步进机NSR-2205iL1。
在光刻系统中，i-line是针对传统工艺的，但近年来，通信半导体和MEMS领域的需求增加，以功率半导体的需求增长为中心，不过该公司决定推出一款新产品传统i-line曝光设备老化且供应紧张、投影倍率降低至5倍。
NSR-2205iL1与现有i-line曝光系统高度兼容可以重复使用传统i-line曝光系统中使用的掩模和配方从而可以轻松更换现有系统。
具有多点自动对焦（AF）的高精度晶圆测量、先进的晶圆台调平性能、宽DOF（扩展的焦深范围）等同时保持各种半导体制造工艺中的良率水平。
使其能够实现高生产率具有宽范围的晶圆厚度、尺寸和翘曲公差并且与SiC和GaN等下一代功率半导体材料兼容，因此可用于广泛的应用是可能的。
此外，尼康决定于2024年投放新产品，这也是时隔24年再次推出采用成熟技术的光刻机，使用i-Line光源技术，可以用于制造要求耐久性的功率半导体等。
海外分析认为，尼康将在新产品使用通用的电子零部件等，价格比佳能便宜20%—30%。
ASML的震惊与市场垄断的破局
ASML公司一直以来保持着光刻机领域的领先地位，几乎垄断了整个市场。
但是，随着日本佳能的自主研发和技术创新，这种局面正在发生改变。
日本的铠侠计划计划在2025年利用NIL的5nm工艺制造存储芯片，而SK海力士也引进了佳能NIL半导体设备。
日本佳能和尼康在光刻机等领域的快速崛起，有望打破ASML公司的垄断地位，并推动整个半导体芯片行业的发展。
这也意味着ASML将面临来自中国和日本等国的强有力竞争对手。
结尾：
在全球半导体产业的竞争大潮中，自主研发和产业升级被视为应对市场变化的重中之重。
在这场高技术竞赛中，中国能否取得优势，将极大地取决于其长期的战略规划以及研发投入的效果。
部分资料参考：熊猫科技说：《中企购买浸没式DUV光刻机！尼康中标，ASML按捺不住了》，半导体前沿：《日本尼康能否深度参与中国光刻产业链合作？》
原文标题 : AI芯天下丨产业丨尼康的下一步：开拓中国光刻机市场
