ASML浸润式DUV光刻,EUV光刻机,正式断供!

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众所周知,目前的芯片制造,基本上是基于光刻工艺,所以必须用到光刻机。

而光刻机又芯片工艺制程对应,如下力所示,比如G线、i线对应的是350nm及以上的芯片工艺,而KrF对应的是350-130nm。

ArF对应的是130-65nm;而ArFi是ArF的改进版,也称之为浸润式DUV光刻机,对应的是65-7nm;EUV是极紫外线光刻机,对应的是7nm以下。

目前,全球的光刻机市场,主要被荷兰的ASML垄断,ASML一家就占了全球90%的份额。其中先进的ArFi光刻机,ASML占了95%,EUV光刻机,ASML占了100%。

日本的尼康、佳能更多的只是ArF、KrF这些较为成熟的光刻机,佳能没有ArFi光刻机,尼康没有EUV光刻机,而ArFi光刻机,也非常少,主要市场还是ASML的。

而中国上海的微电子,水平还在ArF,工艺制程在90nm,所以国内一直以来就是大量采购ASML的光刻机。

美国之前是不允许ASML的EUV光刻机卖到中国大陆来,所以至今为止,中国大陆的晶圆厂,都没有EUV光刻机。

后来,美国更想锁死中国大陆的逻辑芯片工艺在14nm,于是又联手日本、荷兰,对光刻机进一步限制。

其中日本表示所有的浸润式光刻机,都不能出口到中国。而荷兰的ASML则表示,所有的浸润式光刻机中,只有一台NXT:1985Di能出口。

后来在2023年10月份,美国禁令再次升级,ASML唯一一台能够出口的NXT:1985Di也被禁了,无法再出口到中国大陆来了。

不过ASML也称,2023年他们还是拿到了许可证,所以2024年内,所有的浸润式光刻机都能够卖到中国大陆来,但2024年开始,就不行了,所以目前ASML的浸润式DUV光刻,EUV光刻机,正式断供了。

所以我们看到,2023年内,中国大陆在大量的从ASML进口光刻机,数据显示,1-11月份,中国大陆向ASML进口的光刻机金额已经超过了500亿元,是2022年的3倍左右。

很明显,中国大陆在趁着ASML还能出口浸润式光刻机,疯狂大采购,疯狂囤货,毕竟2024年开始,浸润式光刻机就买不到了。

按照业内人士的预测,今年从ASML采购的光刻机,理论上能够支撑国内3年左右的晶圆扩产需求,但3年之后,甚至也可能不需要3年,可能就会又缺光刻机了,特别是缺尖端光刻机了,比如ArFi、EUV这两种。

所以接下来,国产芯片想要突破,就需要国产光刻机突破了,因为ASML短时间之内,是拿不到出口许可证的,浸润式ArFi光刻机、EUV光刻机应该只能靠我们自己,不要想着进口了。

       原文标题 : ASML浸润式DUV光刻,EUV光刻机,正式断供!

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