一直以来，中国大陆是买不到ASML的EUV光刻机的，我们只能买到DUV光刻机，而DUV不论先进，还是落后，都能随便买，ASML重申了好多次的，这个大家都清楚。
不过，按照荷兰，美国等的禁令，从2024年1月1日开始，ASML最新的DUV光刻机NXT：2100i、2050i已经不能卖给中国大陆了，这两种的许可证被吊销了。
虽然ASML没有说，另外两台浸润式DUV光刻机NXT:2000i，NXT：1980Di还能不能卖，但估计也够呛，因为按照美国2023年10月份的禁令要求，NXT：1980Di实际上也是不行的，其DCO值超过了美国的限制。
至于日本，则卡的更严重，40nm的设备就不能卖到中国大陆来的，所以尼康的浸润式光刻机，不管什么型号，都是无法卖到中国来的。
正因为如此，所以很多人担心，接下来我们需要浸润式光刻机怎么办？毕竟进入65nm以下，就需要用到浸润式光刻机了，普通的干式DUV光刻机，其最小工艺制程，只在65nm的。
事实上，大家真的不用愁，至少3-5年内，中国大陆是不缺浸润式DUV光刻机的。
一方面是前面已经说过了，ASML没有将话说死，只说NXT：2100i、2050i这两款的许可证吊销了，还有NXT:2000i，NXT：1980Di这两款啊，这4款浸润式DUV光刻机，精度是基本相同的，只是效率不同而已。
另外一方面，2023年，中国大陆向ASML采购了约600亿元的光刻机，是2022年采购量的3倍左右，其中以浸润式DUV光刻机为主，说明我们早就做好了准备，按照正常的使用情况来看，用个3-5年问题不大。
毕竟以前一年才采购100-200亿，现在一年采购了600亿了，已经做好未来几年用量准备。
第三，则是目前中国国产浸润式光刻机突破在即，也许不需要3-5年就突破了，那时候都不需要进口了，还担心什么呢？
最后，再说一说，浸润式DUV光刻机，制造7nm芯片是不成问题的，这个台积电第一代7nm，就是浸润式DUV光刻机制造出来的，而华为Mate60上的芯片，也验证了这一点。
而浸润式光刻机之父林本坚甚至表示，浸润式光刻机，从7nm推进至5nm，也是可行的，只是需要更多次的曝光，导致成本上升而已，成本很重要，但没有进入5nm重要嘛。
所以说，未来3-5年，我们根本就不用愁浸润式DUV光刻机，甚至推进至5nm也不用愁，我们已经有了足够的准备，至于3-5年之后， 也许时代早就变了，就更不需要杞人忧天了。
原文标题 : 未来3-5年，中国大陆不缺浸润式DUV光刻机，5nm芯片也不用愁
