如今的光刻机市场，已经是ASML的天下了，ASML一家拿下了全球80%以上的市场，特别是在EUV这种高端市场，ASML拿下100%的份额，其它任何光刻机厂商，都生产不了EUV光刻机。
与之对比的是，中国企业目前生产的光刻机，还是90nm，属于ArF类型，中间还差了ArFi(浸润式)这么一大代，至于小的技术演进，则不知道有多少代。
从ArF到EUV光刻机，中间需要多少年，谁也不清楚，也许几年，也许几十年，因为技术的突破，有时候很快就突破了，也有可能永远也突破不了。
很多人可能觉得奇怪，ASML是1984年才成立的，当时还只是飞利浦的一个小部门而已，而中国早在20世纪60年代，就研发光刻机了，在1965年的时候，中国科学院就有了65型接触式光刻机。
这样说起来，中国研发光刻机比ASML起码早了20年，最后ASML却火成这样，中国光刻机却落后这么多呢？
其实这背后有很多细节，是值得我们回味和反思的。
一是中美在在1971年建交，为了体现“诚意”，美国说很多东西，你们不必要研发了，找我们买就是了，没必要浪费钱去研发，还不一定研发的出来。
于是在70末、80年代，很多大的研发项目就停了，从国外买或租，因为这样确实成本低一些，毕竟那时候大家看的也没这么长远，光刻机项目那时候其实也差不多是停了，这一停差不多就是20来年，直到21世纪才算是再次重启研发。
而ASML呢？自成立之后，就一直很努力，寻找各种机会，1986年推出了第二代产品PAS-2500。
后来在90年代末，更是豪赌台积电林本坚提出的浸润式光刻机方案，一下子就成功了，而不愿意赌浸润式光刻机的尼康、佳能落后了，ASML一举成为霸主。
后来intel、ASML等几家公司一起研发了EUV，大家看到EUV技术难度大，成本高，不想搞了， 只有ASML决定再赌一把，笃定要做EUV。
研发EUV要钱，ASML没有，怎么办呢？于是ASML还说服了英特尔、三星、台积电这三家芯片厂一起入股自己，获得了三家厂商约55亿欧元的资金，来研发EUV光刻机。
不曾想ASML又研发成功了，EUV光刻机研发出来后，ASML将蔡司等核心伙伴都捆绑在了自己的战车上，形成利益共同体，导致其它光刻机厂商，很难研发不出EUV光刻机了。
由此可见，中国起步虽然比ASML早20年，但中间其实又耽搁了20来年，再加上各种原因，比如后来美国的打压限制，以及机遇，ASML设的坎等等，最终造成了当前这种现象。
但不管怎么样，研发光刻机，我们没有退路，再难也得研发出来，否则就会一直被人卡住脖子，先进工艺的芯片就会受限，这是我们不能接受的。
原文标题 : 中国光刻机晚事：研发比ASML早20年，却落后这么久呢？
