目前制造7nm以下芯片，全部采用光刻技术。而EUV光刻机，则是制造7nm以下芯片，必不可少的设备，全球只有ASML一家能够生产，最便宜的EUV光刻机，都需要1.5亿欧元左右一台。
而像三星、台积电、intel等，众多的芯片厂，都是从ASML那抢购EUV光刻机，可见这个市场，目前还是卖方市场，不是买方市场。
在这样的情况之下，其它半导体设备厂商，也是蠢蠢欲动，想要生产出与EUV抗衡的设备来，但生产EUV光刻机，则不太现实，因为一些核心供应链、专利等，都被ASML垄断了。
所以其它厂商，都是通过其它办法，来生产类似于EUV的光刻机，制造5nm芯片。
比如佳能，就走的是纳米压印这条路，纳米压印技术的原理很简单，就像盖章一样，第一步先雕刻一个图章出来，下一步拿这个图章，直接印到硅晶圆上，就形成了电路图。
只要这个图章不磨损，就可以一直盖章盖下去，看起来确实简单很多，原理也简单。
去年的时候，佳能正式发布了全球首款NIL系统FPA-1200NZ2C，表示这台设备，可以制造最小线宽14nm的芯片，从工艺制程来看，也就是5nm。
而近日，佳能的这个设备，正式出货了，第一个客户是美国德克萨斯州的半导体联盟—德克萨斯电子研究所 （TIE）。
按照佳能的说法，这种NIL纳米压机，其售价只有EUV光刻机的10%左右，大约也就是1500万欧元。而使用NIL设备来制造芯片，一整套设备的成本，相比于EUV光刻机生产线的成本，可能会低40%~50%。
看起来似乎便宜很多，优势明显，但其实NIL纳米压印的缺点也非常明显，一是生产效率不高，其产能，无法和EUV光刻机相比，如果像台积电这种大规模制造芯片，很难实现。
另外就是使用NIL设备来制造芯片，几乎整套设备生产线，都要换掉，和EUV生产线不兼容。
所以，目前真正愿意使用NIL生产线来制造芯片的厂商，并不多，因为有这个能力制造5nm芯片的厂商，之前的生产线，大多都是基于EUV的，全部换掉，不太现实。
所以购买佳能NIL设备的，主要是一些研究机构，大家也没有大规模生产芯片的需求，更多的的研究需要。
当然，中国其实是有机会成为佳能NIL设备的最大客户的，毕竟我们买不到EUV,也没有EUV生 线，是从0开始的建设NIL生产线，非常合适，但因为禁令，佳能不能卖给中国，真是遗憾。
原文标题 : 佳能NIL设备出货：不需要EUV，制造5nm芯片，成本低90%
