直到时任台积电研发副总经理的林本坚提出“浸入式光刻技术”，利用现有成熟技术改造，给半导体设备制造商节省研发投入，并减小芯片制造商的导入成本。
“浸入式光刻”方案一出，基本上宣判了半导体界正在开发的各种“干式”微影技术方案的死刑，意味着此前投入巨量的资金和人力几乎打了水漂，美国、德国、日本等大厂们基本都拒绝采用，但是作为新生力量的ASML表示愿意一试。
2004年，阿斯麦和台积电共同研发成功全球第一台浸润式微影机。Nikon那一年也宣布采用干式微影技术的157nm产品和电子束投射（EPL）产品样机研制成功。
但阿斯麦的产品属于改进型成熟产品，相对于尼康的全新研发应用成本低，而且缩短光波比尼康的效果还好，结果，没人愿意买Nikon的产品，溃败由此开始，市场份额被ASML大口吃进。
如今技术并非唯一竞争标准
虽然每台售价1亿多美元，但它具有垄断性，芯片制造工厂台积电、三星、Intel、中芯都是排着队在等货。
由于台积电、三星、Intel等公司有入股，所以有优先购买权。加上欧盟和美国的技术出口管制条约瓦森纳协议，中芯即使排着队，也很难买到ASML最先进的产品，一般只能买到几年前的产品。
正因为技术难度大，ASML即便投入大量研发费用，也未能实现完全自主，它仍要从美国、德国、日本等国家进口零部件。比如，其光刻机的镜头，是从德国购买而来，而电源则购于美国。
当今电子工业，依然受摩尔定律影响，基本一年半就得迭代一次，这就导致芯片厂商排队，也要买最新光刻机，不然就无法造出高端芯片。
阿斯麦好比一家掌握着独家秘方的私房菜馆，别人不仅轻易学不到秘方，想吃他家菜还得斥巨资。也正因此，ASML垄断着100％的7nm以下光刻机市场，是的100％更严重的是，想买它还不一定敢卖。
而背后有着台积电、因特尔以及三星和德国蔡司等知名科技巨头的撑腰，荷兰ASML公司在光刻机制造领域只会继续一路高歌。
除了技术问题外，荷兰ASML公司生产的光刻机充分体现了利益捆绑的战略，ASML的光刻机所需要的零部件中，大约有90％的依赖进口。
这意味着阿斯麦的业绩如果上升了，那向其供货的美国、德国、法国、英国、日本等国的相关企业都获利丰厚。除此以外，三星、台积电不仅是荷兰ASML公司的大客户，也是ASML公司的股东。
这种利益捆绑，使得三星、台积电能优先获得光刻机，保证了他们的市场地位都很稳固，从这些角度来看，荷兰光刻机引领全球的原因，不仅仅只是技术问题。
结尾：
目前从产品上看，ASML的产品遍及低、中、高、超高端市场，产品种类丰富。在超高端的5nm、7nm领域，ASML是全球唯一能够生产的厂商，其EUV光刻机设备的市场占有率达100％。
尼康的光刻机涉及低、中、高端市场，尼康的NRS系列与ASML的ArF浸入式光刻机参数指标大体相近，基本可以达到ASML高端产品的水准，但是在高端的5nm、7nm领域无力与之抗衡。
