9月17日，科创板上市委员会审议通过北京华卓精科科技股份有限公司（以下简称“华卓精科“）的首发申请，华卓精科顺利过会。
据维科网了解，华卓精科以超精密测控技术为基础，研究、开发以及生产超精密测控设备部件、超精密测控设备整机并提供相关技术开发服务，其中超精密测控设备部件产品包括精密运动系统、光刻机双工件台模块、静电卡盘和隔振器等，整机产品包括晶圆级键合设备、激光退火设备等。应用领域覆盖集成电路制造、超精密制造、光学、医疗、3C 制造等行业。
公司主要产品包括精密运动系统、光刻机双工件台模块、静电卡盘和隔振器等超精密测控设备部件以及晶圆级键合设备、激光退火设备等超精密测控设备整机，以及上述部分主要产品的技术开发服务。如果成功上市，华卓精科或将成为“国产光刻机第一股”。
招股书显示，华卓精科本次拟发行股票不超过3200万股，募集资金约7．35亿元，将用于半导体装备关键零部件研发制造项目、超精密测控产品长三角创新与研发中心建设、集成电路装备与零部件产品创新项目、超精密位移测量及平面光栅测量技术研发项目等。
公司报告期内合并财务报表主要财务数据及财务指标如下：
报告期各期内，公司主营业务收入构成情况如下：
报告期各期，公司销售收入分别为8570．92万元、12096．58万元和15234．06万元。其中如晶圆级键合设备及技术开发报告期各期收入分别为200．00万元、2561．95万元和1458．94万元， 激光退火设备报告期各期收入分别为0．00万元、1017．70万元和1637．17万元，光刻机双工件台模块及技术开发报告期各期收入795．00万元、0．00万元和1737．74万元。
国内首家自主研发光刻机双工件台供应商
众所周知，光刻机又被誉为芯片产业上的“明珠”。光刻机工件台是光刻机的核心子系统之一，其主要功能是承载晶圆按照指定的运动轨迹做高速超精密运动并完成一系列曝光所需动作，包括上下片、对准、晶圆面型测量和曝光等。光刻机双工件台是芯片制造IC前道光刻机的核心部件之一，其主要是由微动模块、粗动模块、其他模块组成，可实现对准和光刻同步进行，极大地提高了光刻机的精度和生产效率。
在光刻机的三大核心部件：EUV光源、双工件台、光学镜头，其中双工件台是技术壁垒最高、制成难度最大的，其成本占到整个光刻机成本的10％－20％，光刻机双工件台的性能在光刻机对晶圆进行光刻时起到决定性影响。光刻机的核心指标为套刻精度、分辨率和产率，工件台的运动平均偏差决定了光刻机套刻精度，运动标准偏差直接影响光刻机分辨率，运动速度决定了光刻机的产率。
目前，全球范围内光刻机双工件台技术被荷兰ASML一手垄断，华卓精科携手清华团队成功打破了双工件台技术壁垒，成为了全球第二，全国第一家掌握掌握EUV光刻机双工件台技术的厂商，实现了技术、双工件台零部件的完全自主化生产。但与当前最先进EUV光刻机所使用的工件台性能相比，华卓精科已发出的DWS光刻机双工件台产品部分技术指标落后于竞争对手，仍然有较大的差距。
据招股书显示，目前市场上主流应用的光刻机按光源类型可分为五类：I－line光刻机、KrF光刻机、ArF光刻机、ArFi光刻机（即ArF浸没式光刻机）、EUV光刻机，其作为关键层主力机型的最小制程工艺节点分别为250nm、90nm、65nm、7nm、3nm。前述光刻机中与工件台相关的有两个分系统：工件台分系统、位移测量反馈分系统。
华卓精科DWS系列采用磁悬浮平面电机双工件台架构，其对应的位移测量反馈分系统采用激光干涉位移测量，主要适用于干式步进扫描式投影光刻机（I－line、KrF、ArF干式光刻机），可用于65nm及以上工艺节点IC前道光刻机。适用于ArFi光刻机的DWSi系列尚在研发中。据悉，在光刻机双工件台技术方面，华卓精科DWS系列光刻机双工件台可实现优于4．5nm的运动平均偏差，已于2020年4月和2021年1月、4月、6月分别向上海微电子发货1台 DWS双工件台，累计发货4台DWS双工件台，目前仍处于与上海微电子光刻机整机集成、测试阶段，尚未通过上海微电子最终验收；公司的DWSi系列光刻机双工件台运动平均偏差优于2．5nm，可应用于ArFi光刻机，目前正在研发中。
但另一方面，华卓精科研发、生产的光刻机双工件台下游客户仅有上海微电子，导致公司光刻机双工件台产品最终实现商业化应用受限于上海微电子光刻机整机集成进度及上海微电子对外销售情况，即受限于上海微电子光刻机所获商业订单及生产排期的影响。一定程度上，公司光刻机双工件台产品商业化前景取决于上海微电子光刻机整机销售情况。
