据彭博社2月9日的消息,ASML 在本周三发布的最新年度报告中提到:“2021 年初,我们根据有关报道了解到,XTAL的关联公司,正在中国积极销售可能侵犯 ASML 知识产权的产品。”
据公开资料显示,XTAL的“关联公司“为中国的东方晶源微电子,此为前者的母公司,XTAL在2019年的窃取 ASML 商业机密案后注销。
ASML表示:已经要求部分客户暂停与 XTAL 中国的母公司东方晶源微电子的业务往来,并已告知中国政府相关情况。同时,正在“密切关注这一情况,并准备在适当的时候采取法律行动”。
彭博社表示,发送至 XTAL 网站上列出的官方电子邮件的询问无法送达,并且打给东方晶源微电子北京总部的电话也无人接听。
此前,六名前ASML的中国雇员,与XTAL中国员工分享了ASML软件流程的信息,而遭受调查,后者被指控窃取ASML产品和服务的一小部分,将其出售给了ASML位于韩国的客户。值得一提的是,该客户为韩国的三星,而三星为XTAL的第二大股东,持有XTAL30%的股份。
2019 年 5 月,美国加州圣克拉拉市法院判决 XTAL 窃取 ASML 商业机密一案,ASML 获得胜诉。加州高等法院判给 ASML 8.45 亿美元(约合 57.4 亿人民币)赔偿及临时禁令,并接手已破产的 XTAL 的大部分知识产权。
从目前披露的信息来看,涉及侵权的产品也并非光刻机技术。
据了解,东方晶源微电子科技(北京)有限公司(下称“东方晶源”)成立于2014年2月,总部位于北京,在上海及深圳设有研发中心。是由俞宗强博士带领海外华人科学家、工程师设立的高科技公司。
东方晶源承担了三项国家“02重大专项”任务,分别为“计算光刻软件与测试系统的研制”、“自由光瞳照明技术在光刻机中的应用研究”以及“14nm以下电子束硅片图形缺陷检测设备研发与产业化”。其中前两项均与国产浸没式光刻机研发有关,是国产浸没式光刻机所需的核心技术。
东方晶源主要业务为服务芯片设计与制造的EDA软件产品、光刻机制程优化系列产品的研发以及纳米级检测装备和关联软硬件产品良率综合优化解决方案的研发与生产。公司的核心业务和产品均为国内唯一,填补国内空白。
其中，光刻机优化和计算光刻软件(OPC)是连接芯片设计和制造的核心软件,也是光刻机工作的必备软件。东方晶源研发生产的纳米级电子束图形检测装备(EBI和CD-SEM)也是芯片制造过程中良率检测和控制的必备设备,也是国内目前唯一可以实现28纳米前道检测的装备。公司前述三项产品均已在国内主要客户产线验证并获得多个订单,打破了国际巨头在该等领域的多个垄断。公司目前共申请专利142项,获得授权46项,其中包括日本、美国专利19项。
