5月6日消息，有投资者向晶瑞电材提问，光刻胶作为核心半导体材料，请问公司的技术优势在哪里？目前的销售情况怎么样？
晶瑞电材回应称，光刻胶位居芯片制造最难材料之首，属典型卡脖子材料，我司子公司苏州瑞红是国内少有的既有规模又有利润的成熟光刻胶企业，销售规模和盈利能力处于国内领先位置，近年销售额和利润均呈现高速增长。
瑞红公司光刻胶品类齐全，经过三十年积累，拥有负型光刻胶系列、宽谱正胶系列、g线系列、i线光刻胶系列、KrF光刻胶系列等数十个型号产品，ArF光刻胶的研发工作有序开展中。瑞红部分产品占据国内主要市场份额，部分产品进入了头部芯片公司。目前公司半导体光刻胶产品产销正常，其中部分光刻胶产品供不应求，公司已启动该类光刻胶产品的扩产项目建设。
公开资料显示，晶瑞电材是国内技术领先的微电子化学品龙头，主要产品包括超净高纯试剂、光刻胶、功能性材料、锂电池材料等，广泛应用于半导体芯片、面板显示、LED等泛半导体领域及锂电池、太阳能光伏等新能源行业。
晶瑞电材的光刻胶产品由其的子公司苏州瑞红生产，规模生产光刻胶30年，产品序列齐全，产业化规模、盈利能力均处于行业领先水平，是国内最早规模量产光刻胶的少数几家企业之一。
根据晶瑞电材的财务总监、董秘陈万鹏透露，晶瑞去年1．79亿元的光刻胶收入中，有80％～85％来自半导体客户。
2021年度，受益于国产半导体材料渗透率加速提升、新能源汽车行业高速发展，公司主营产品半导体级光刻胶及配套材料、高纯化学品、锂电池材料等产销两旺，同比环比均产生了较大增长，业绩增速十分显著。
2021年度，晶瑞电材实现营业总收入183，208．76万元，较上年同期增长79．21％；实现归属于上市公司股东的净利润20，099．66万元，较上年同期增长161．20％。
其中，光刻胶及配套材料产品共计实现销售27，412．34万元，同比增长53．04％，达到历史最高水平，综合毛利率提升了4．3个百分点，盈利水平得以提升。
晶瑞电材的半导体光刻胶布局中，i线光刻胶已经量产，拥有 i 线光刻胶 100 吨／ 年，并批量出货给国内晶圆制造头部企业，是目前国内少数几家实现光刻胶量产的企业之一，其i 线光刻胶已向国内头部的知名大尺寸半导体厂商供货，主要客户包括中芯国际、华虹宏力、上海积塔、长江存储、士兰微、合肥长鑫、扬杰科技等半导体行业知名企业。
KrF（248nm深紫外）光刻胶产品分辨率达到了0．25～0．13μm的技术要求，已通过部分重要客户测试，KrF光刻胶量产化生产线正在积极建设中，计划2022年形成批量供货。同 时为加快KrF光刻胶的量产，公司新购入了尼康KrF S207光刻机及配套设备。
国内主要光刻胶企业
光刻胶又称“光致抗蚀剂”，是光刻成像的承载介质，其作用是利用光化学反应的原理将光刻系统中经过衍射、滤波后的光信息转化为化学能量，进而完成掩模图形的复制。
一定程度上来说，光刻出的电路图案越精密，就代表着芯片性能越好。采用不同的光刻光线，对应地需要搭配不同的光刻胶。目前，根据不同的光波长，光刻胶大致可以分为G线、I线、KrF、ArF、EUV这几类。
一直以来，半导体光刻胶都属于光刻胶高端产品，由于国内光刻胶领域起步较晚，技术严重落后等原因，导致我国半导体芯片领域的光刻胶需求主要由外资企业来满足，日美厂商占据了约87％的份额，国内光刻胶产品进口比例高达九成。
在如此恶劣的环境下，国内依旧诞生了一批优质光刻胶企业。
彤程新材
彤程新材成立于2008年，电子化学品业务主要涵盖半导体光刻胶及配套试剂、显示面板光刻胶和电子级酚醛树脂。
2020年，彤程新材通过外延并购实现光刻胶业务布局，其子公司北京科华和北旭电子分别为国内半导体光刻胶和面板光刻胶领先企业。其中，北京科华是唯一被SEMI列入全球光刻胶八强的中国光刻胶公司，其研发进度国内领先，KrF光刻胶实现量产。北旭电子是国内首家TFT光刻胶制造商，国内市场整体占有率近20％。
同时，彤程新材积极向光刻胶上游布局，发挥产业链协同优势。通过建立电子级酚醛树脂生产线，着力研发G／I线光刻胶、KrF光刻胶、ArF光刻胶生产所需的树脂。
此外，彤程新材加速光刻胶产能拓展满足国内市场需求，先后规划1．1万吨半导体、平板显示用光刻胶及2万吨相关配套试剂项目，并建设年产5000吨电子级酚醛树脂生产线。
此外，彤程新材还建立了光刻胶研发实验室和电子级树脂研发平台，不断深入电子化学品布局。彤程新材客户涵盖国内主流厂商，包括中芯国际、上海华力微电子、长江存储、华润上华、杭州士兰、吉林华微电子、三安光电、华灿光电等。目前是全球领先的新材料综合服务商。
南大光电
南大光电成立于2000年，是专业从事先进前驱体材料、电子特气、光刻胶及配套材料三类半导体材料产品生产、研发和销售的高新技术企业。
自2017年起，南大光电先后承担国家“02专项”高分辨率光刻胶与先进封装光刻胶产品关键技术研发项目和ArF光刻胶产品开发与产业化项目。历经3年，南大光电已制备出国产自主可控的ArF光刻胶产品， 满足产业化的技术条件。
目前，南大光电自主研发的ArF光刻胶产品已经成功通过武汉新芯的使用认证，成为通过产品验证的第一家国产ArF光刻胶企业，目前，南大光电建有ArF光刻胶产品大规模生产线，将形成年产25吨ArF（干式／浸没式）光刻胶产品的生产能力，产品性能可以满足90 nm－14 nm集成电路制造的要求。
上海新阳
上海新阳成立于1997年，二十年来，上海新阳经过持续不断地研发创新，形成了拥有完整自主可控知识产权的电子电镀和电子清洗两大核心技术。
紧密围绕两大核心技术，上海新阳开发研制出140多种电子电镀与电子清洗系列功能性化学材料，产品广泛应用于集成电路制造、3D－IC先进封装、IC传统封测等领域，满足芯片铜制程90－28 nm工艺技术要求，相关产品已成为多家集成电路制造公司28nm技术节点的基准材料，成为中国半导体功能性化学材料和应用技术与服务的知名品牌。
此外，上海新阳已立项研发集成电路制造用高分辨率193 nmArF光刻胶及配套材料与应用技术，其KrF厚膜光刻胶2021年开始实现少量销售，预计2022年可实现量产；ArF干法光刻胶尚在认证当中，在2022年可实现少量销售，2023年开始量产，其合肥第二生产基地项目正在按计划建设当中。
徐州博康
徐州博康成立于2010年，深耕光刻材料领域十余年，实现了从单体、光刻胶专用树脂、光酸剂及终产品光刻胶的国产化自主可控的供应链，目前已开发全球在用的KrF及ArF光刻胶单体种类的80％左右，是国内半导体光刻胶领域少有的垂直一体化企业。
2021年徐州博康产能切换及光刻产品技术与工艺不断突破，光刻胶单体收入同比增长19．48％，光刻胶收入同比增长177％。
目前徐州博康ArF光刻胶有6款，品种涵盖65nm，55nm、40nm、28nm及以下的关键层工艺以及LOGIC，3DNAND，DRAM等应用领域。其中，应用于通孔工艺的ArF湿法光刻胶，已经能够应用至40nm／28nm工艺节点，是我国第一款国产化的ArF湿法通孔光刻胶。目前，有4款A胶正在客户端进行导入测试。KrF光刻胶有13种，目前有8款K胶正在客户端进行导入测试。I线光刻胶有11种，产品种类涵盖高能注入、抗刻蚀等关键层工艺以及PAD、lift－off等应用领域。
结语
对于国内企业来说，在光刻胶行业取得良好的发展，是突破美国对于国内半导体行业的封锁的绝佳机会。现在国内的光刻胶企业虽然在中低端光刻胶领域有所进展，但在高端光刻胶领域明显存在差距，后续能否在该领域实现突破，还有待观望。
