ASML再遭重击,中国芯片成救命稻草

柏铭007
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外媒报道指美国芯片企业美光已量产无需EUV光刻机的1β(1-beta)制造工艺,主要是因为ASML的EUV光刻机实在太昂贵了,它希望绕开EUV光刻机来降低生产成本,这对ASML来说无疑是又一个重大打击。

ASML再遭重击,美国芯片也舍弃EUV光刻机,中国芯片成救命稻草

业界都清楚光刻机非常昂贵,第一代EUV光刻机售价达到1.2亿美元,第二代EUV光刻机更将达到4亿美元,昂贵的EUV光刻机让芯片制造企业难以承受,但是为了推进先进工艺,它们还是无奈接受。

不过在诸多芯片制造企业当中也有另类,日本的存储芯片企业铠侠就开辟了无需光刻机的芯片制造工艺NIL,据悉铠侠早已将NIL工艺投入生产,大幅降低了成本,如今NIL工艺已达到10nm以下,预计可以应用于5nm工艺生产。

日本成功开发无需光刻机的NIL工艺给全球芯片行业带来启发,不过美光研发的1β(1-beta)制造工艺仍然需要ASML的DUV光刻机,只是绕开了价格昂贵的EUV光刻机,据悉美光的1β(1-beta)制造工艺可以提高能效15%,存储密度则提升35%以上,达到世界领先水平。

随着美光研发出绕开EUV光刻机的芯片制造工艺,未来或许几家存储芯片企业三星、SK海力士等也会跟进,毕竟如今存储芯片价格大跌,降低成本成为存储芯片企业生存的关键,如果三星和SK海力士不跟进,那么它们将可能因为成本问题而落后于美光。

ASML再遭重击,美国芯片也舍弃EUV光刻机,中国芯片成救命稻草

EUV光刻机是ASML赖以自豪的先进技术,全球仅有ASML能生产EUV光刻机,日本两家光刻机企业佳能、尼康只能生产DUV光刻机,然而ASML如今却已面临EUV光刻机难卖的局面。

台积电已关闭4台EUV光刻机,目前还面临着先进工艺产能过剩,为此以要求员工休无薪假期;Intel则已完成Intel 4工厂建设;三星的3nm工艺投产后面临无客户的问题,这三家购买EUV光刻机的大客户都不可能继续采购,如今美国芯片企业美光又宣布绕开EUV光刻机,那么ASML的EUV光刻机还能卖给谁?

ASML或许该考虑中国芯片客户了,由于众所周知的原因,ASML无法对中国出售EUV光刻机,然而如今环境下,中国大陆以外的芯片制造企业都已不可能采购EUV光刻机,而ASML本来还计划倍增EUV光刻机产能,那么它如果还不能对中国出售EUV光刻机,这些EUV光刻机就会成为库存。

全球芯片行业的衰退也给ASML带来压力,过去两年全球大举扩张芯片制造产能,ASML由此获得厚利,然而今年下半年以来全球芯片行业步入下行阶段,芯片制造企业不仅不会扩张产能,还在收缩产能,而中国大陆则为了推进芯片自给率继续推进产能扩张,可以说中国芯片已是ASML的救命稻草。

ASML再遭重击,美国芯片也舍弃EUV光刻机,中国芯片成救命稻草

这个时候ASML就不得不考虑自己的生存问题了,如今的ASML确实处于辉煌顶峰,然而2005年之前它可是为生存而发愁,它也不想再回到那种吃了上顿没下顿的日子吧,面对中国芯片市场这个大蛋糕,它需要考虑下如何打破限制而对中国出售EUV光刻机的问题了。

       原文标题 : ASML再遭重击,美国芯片也舍弃EUV光刻机,中国芯片成救命稻草

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