价格只有EUV的10%,佳能销售5nm光刻机,但不卖给中国

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众所周知,前段时间佳能正式在官网官宣,其旗下的NIL纳米压印光刻机生产设备 FPA-1200NZ2C出货了,而这个光刻机,与EUV光刻机不同,是绕开EUV的另外一种纳米压印技术,但是能够生产5nm芯片。

一时之间,让整个芯片圈震荡,因为以前所有7nm以下的芯片制造,都必须使用EUV光刻机,而全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机,佳能此举相当于打破了ASML垄断,能够改写整个市场格局。

不过,当时很多人对佳能的NIL纳米压印光刻机存疑,因为究竟什么时候销售,成本又是什么样的,能效比,效率,良率等都没有。

而近日,佳能首席执行官三井藤夫接受媒体采访,说出了很多关键的指标参数,或许可以部分解决大家的疑问了。

按照三井藤夫的说法,佳能的纳米压印光刻机,其售价只有EUV光刻机的10%左右。同时其耗电量也只有EUV 技术的10%。

另外从总投资成本来看,用NIL纳米压印技术,可让设备投资成本降低至原有EUV设备的40%左右。

而关于纳米压印光刻机,三井藤夫提到,它可以更为灵活的为客户生产小批量芯片,甚至可以让芯片设计工厂,不必再依赖于晶圆代工厂来进行流片,以及生产小批量的芯片。

由此可以推测,其量产能力应该不会非常强,毕竟对于一般的芯片设计企业而言,不需要大规模的产线,只需要小批量的生产线来验证即可,所以纳米压印光刻机,更适用于小规模生产。

估计到了这里,马上就会有人反应过来,那么这比较适合华为,华为是芯片设计厂,但目前因为众所周知的原因,制造被卡了,所以急需这种设备,自己生产芯片,又是5nm工艺。

而三井藤夫正确认,这种设备是不能卖到中国来的,之前日本的出口管制清单,当中就有限制“可实现45nm以下线宽的压印光刻装置”。

而最为明确的规定则是用于14nm及以下芯片制造的设备,是无法出口到中国大陆来的,所以佳能这种设备,也无法卖给中国。

但不管怎么样,虽然我们暂时无法买到,但也给我们指了一个方向,同时也给了ASML一击暴击,后续EUV光刻机,也没这么神了。

       原文标题 : 价格只有EUV的10%,佳能销售5nm光刻机,但不卖给中国

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