众所周知,前段时间佳能正式在官网官宣,其旗下的NIL纳米压印光刻机生产设备 FPA-1200NZ2C出货了,而这个光刻机,与EUV光刻机不同,是绕开EUV的另外一种纳米压印技术,但是能够生产5nm芯片。
一时之间,让整个芯片圈震荡,因为以前所有7nm以下的芯片制造,都必须使用EUV光刻机,而全球仅ASML一家能够生产EUV光刻机,佳能此举相当于打破了ASML垄断,能够改写整个市场格局。
不过,当时很多人对佳能的NIL纳米压印光刻机存疑,因为究竟什么时候销售,成本又是什么样的,能效比,效率,良率等都没有。
而近日,佳能首席执行官三井藤夫接受媒体采访,说出了很多关键的指标参数,或许可以部分解决大家的疑问了。
按照三井藤夫的说法,佳能的纳米压印光刻机,其售价只有EUV光刻机的10%左右。同时其耗电量也只有EUV 技术的10%。
另外从总投资成本来看,用NIL纳米压印技术,可让设备投资成本降低至原有EUV设备的40%左右。