中国创新技术发展越来越快，美国越来越焦虑。
近日，据外媒报道，美政府试图阻挠荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）向中芯国际出售一台价值1．5亿美元的EUV（极紫外光刻机）。
对此，荷兰半导体设备供应商ASML表示，无论有无美国发放的极紫外光光刻机（EUV）销售许可证，ASML 都希望对华继续供应半导体设备，并希望2020年增加其产品在中国市场的销售份额。
《瓦森纳协定》卡脖子，中国半导体工艺难提升
目前，荷兰ASML是光刻机领域的龙头老大，占据超过80％的市场份额，垄断了高端光刻机市场。
作为集成电路制造过程中的核心设备，光刻机起到至关重要的作用，芯片厂商想要提升工艺制程，就必须要向ASML购买光刻机，全球知名的芯片厂商英特尔、三星、海力士、台积电、联电、格芯等都是ASML的客户。
中国市场一直以来都是ASML看好的重点业务区域，然而近些年来却因为美国的“黑手”而接连遇阻。为什么这么说呢？这里不得不提到《瓦森纳协定》。
《瓦森纳协定》又称“瓦森纳安排机制”，全称为《关于常规武器和两用物品及技术出口控制的瓦森纳安排》，目前共有包括美、日、英、俄等40个成员国（没有中国）。尽管《瓦森纳协定》规定成员国自行决定是否发放敏感产品和技术的出口许可证，并在自愿基础上向其他成员国通报有关信息，但实际上完全受美国控制。
每当某一成员国计划向中国出口某项高新技术时，美国甚至直接出面干涉，比如当年捷克向中国出口“无源雷达设备”时，美便向捷克施压，迫使捷克停止这项交易。
不过《瓦森纳协定》协定也并非完全禁售，只是针对最新的几代设备。就好比别人都能用最新的技术，而你就只能用落后了两到三代的技术，长期保持这样状况就会造成中外高端技术差距越来越大。
据小编了解，美国早在2018年就开始伸手阻挠光刻机进入中国市场。此前，荷兰政府已经向ASML授权允许向中国客户出口光刻机设备。然而美国在得到这个消息后，采取各种措施阻挠光刻机出口中国。
2019年6月，美国国务卿蓬佩奥就曾亲自游说荷兰政府，并要求荷兰首相马克．吕特阻止ASML向中国出口光刻机的交易；
同年7月，吕特到访美国时，美国副国家安全顾问库伯曼甚至还向荷兰首相马克．吕特分享一份关于“中国获得光刻机的可能后果”的“机密情报”，以拉拢荷兰站队；
故事发展的后续相信大家也都清楚了，为了避免因供应最先端设备给中国因而刺激到美国，ASML于11月7日宣布，将暂时停止原定于2019年底向芯片制造商中芯国际交付的EUV极紫外线微影设备。
面对技术封锁，中国的光刻机水平发展如何了？
光刻机的技术门槛非常高，可以说是集人类智慧大成的产物。它不仅体现在后续芯片制造的高级工艺上，就连制造光刻机本身，也采用了许多全世界上最先进的技术。而我国光刻机发展迟缓，不止在于难以进口成品光刻机设备，即使是生产光刻机所需的关键零件对我国也是禁运的，所以制约了我国光刻机技术的发展。
资料显示，1977年，我国最早的光刻机－GK－3型半自动光刻机诞生，这是一台接触式光刻机。当时光刻机巨头ASML还没有出现，而日本的尼康和佳能已于60年代末开始进入光刻机领域。然而苦于当时国内生产工艺尚不成熟，所以光刻机也一直没有得到更深入的研究。
80～90年代，“造不如买”的思想席卷了大批制造企业，在集成电路产业方面也出现了脱节，覆巢之下无完卵，此时的光刻机产业同样也出现了衰退。虽然后续一直在追赶国外列强的脚步，但产业环境的落后加上本来就与世界先进企业有差距，使得中国终究没有在高端光刻机领域留下属于自己的痕迹。
