ASML子公司Cymer是行业领先的EUV大功率光源制造商。日前，该公司宣布其第7代光源XLR 960ix已经通过了ASML NXT：2050i扫描仪的认证。硬件的进步改善了过程控制，提高了ArF浸入式光刻系统的可用性、可持续性及生产力。
Cymer公司产品开发部副总裁David Knowles说：“随着芯片制造商在混配制造环境中持续扩大ArF浸入式光源和EUV光源的使用，与之匹配的高工艺控制要求也变得越来越重要。”XLR 960ix的设计减少了光源自然产生的散斑，由此降低了线宽粗糙度，能够改善整体边缘放置误差。
且XLR 960ix采用了新的光脉冲扩展器，可以增加脉冲持续时间，减少30％的散斑，从而提升局部CDU性能。光源本身会产生散斑，当曝光晶圆时，这种自干涉形式会导致光强不均匀，并致使局部光源分配变化。
为了跟上芯片制造商不断增长的晶圆产量，Cymer还采用了最新设计的第五代Chamber模组，允许产能大的晶圆厂在定期维护期间运行大约一年。这项技术已经在Cymer现有的ArF浸入式系统上进行了12个多月的实地测试，现在已开始向客户提供。此外，XLR 960ix还通过弱化自动校准，降低电力和气体消耗来增强设备的可持续性。
XLR 960ix预计将于2020年第三季度实现对主要芯片制造商的交付。
