晶瑞股份:半导体与新能源双轮驱动

半导体研究笔记
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1.4 持续投入研发助力长期成长,产品进度有望形成接力

公司处于较高附加值的湿电子化学品产业,上游是基础化工原料,下游是面板、光伏、半导体等领域制造企业。上游基础化工行业配置比较完善,产品种类齐全,产能充裕。湿电子化学品作为下游产业生产过程中的关键耗材,下游产业技术提升,也要求湿电子化学品品质有相应的提升。两者发展相辅相成,关系紧密。

湿电子化学品核心技术包括提纯、配方和检测分析,公司在配方和提纯技术均有深厚的积累。1)配方主要针对复配型产品,如抛光材料、剥离液、清洗液等产品,配方需要企业有丰富的经验,通过不断的调配、试验、试制及测试才能完成,甚至还需针对客户的技术工艺进行调整;2)提纯技术主要用于去除杂质,目前国内外制备超净高纯试剂常用的提纯技术主要有精馏、蒸馏、亚沸蒸馏、等温蒸馏、减压蒸馏、低温蒸馏、升华、气体吸收、化学处理、树脂交换、膜处理等技术。不同的提纯技术适应于不同产品的提纯工艺;3)检测分析技术是湿电子化学品质量控制的关键技术之一,可分为颗粒分析测试技术、金属杂质分析测试技术、非金属杂质分析测试技术等。

公司规模生产光刻胶近30年,拥有达到国际先进水平的光刻胶生产线,能够提供紫外负型光刻胶和宽谱正胶及部分g线、i线正胶等高端产品,主要应用于半导体及平板显示领域,承担并完成了国家重大科技项目02专项“i线光刻胶产品开发及产业化”项目,i线光刻胶已向多家半导体头部公司供货。2021年1月19日公司公告,顺利购得ASML XT 1900Gi型28nm光刻机一台,用于ArF光刻胶的开发。随着必不可少的试验设备导入成功,公司计划2022年完成ArF光刻胶配方研制,2023年完成中试线和量产线建设。

国内光刻胶材料发展较慢,目前主要以130nm制程用KrF光刻胶为主,16nm以下先进制程用光刻胶基本被海外巨头垄断。公司自主研发的i-line胶系列产品达到国外主流同等技术水平,已经批量出货给国内晶圆制造头部企业;248nm KrF胶处于中试测试阶段,已实现0.15μm实用分辨率;ArF胶是未来三年研发重点方向。

1.5 深耕中国大陆市场,产业链上下合作紧密

公司产品等级不断提升,在中高端客户市场的客户储备和开拓也取得一定突破。

超净高纯试剂方面,公司的电子级双氧水、氨水达到全球第一梯队的技术品质,同时实现向半导体头部公司、华虹宏力、方正半导体、武汉新芯、长江存储等国内主流半导体企业的供货或通过其采购认证,电子级硫酸项目今年也有望步入正轨。

光刻胶/功能性材料方面,公司承担的02国家重大专项光刻胶项目已经通过国家重大专项办的验收。公司生产的i线光刻胶已向合肥长鑫、士兰微、扬杰科技、福顺微电子等行业头部公司供货,月度需求逐渐提升。公司依托设立国家CNAS实验室及江苏省集成电路精细化学品工程技术中心等研发平台,开发了系列功能性材料用于光刻胶产品配套,为客户提供了完善的技术解决方案,并向半导体头部公司实现批量供货。

锂电池材料方面,公司与行业主流头部公司建立了长期的合作关系,通过收购载元派尔森也成功进入三星环新的供应体系。

长江产业基金助力,加强产业链上下游战略合作关系,形成良性闭环。公司作为微电子制造和新能源领域的材料供应商,与客户及行业龙头深度合作有助于及时把握市场需求动向、减少技术开发难度、提升产业资源利用效率。在长江产业基金引导下的湖北新材料项目拟建立年产9万吨的化学品生产基地及配套技术服务中心,包括湿电子化学品65000吨/年、湿电子化学品分装23000吨/年、光刻胶2000吨/年以及研发、分析检测技术等。2019年6月15日签署投资落地协议,2019年11月25日开工,一期项目预计在2021年一季度投产,达产后预计产值为15.37亿元,利润2.5亿元。

1.6 围绕客户多地扩产,持续投入静待收获

公司近年一直处于持续高投入状态,围绕下游晶圆制造、面板、锂电池等客户建设生产基地提供服务,通过扩张产能、收购等方法逐渐完善战略布局。公司在四川、湖北、江苏、安徽、陕西等多地设立生产基地,围绕半导体、面板和锂电池等制造企业提供服务。


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