今天是9月6日，距离武汉千亿芯片项目——弘芯项目停摆情况最初被曝光的日子已经过去了近两周时间了。关于这个项目，还有太多疑问等待相关方面向市场厘清，但是，对于这个项目特别重点的两个元素——「大陆唯一7nm光刻机被抵押」和「项目停摆」，笔者试图在这篇文章中尽可能地探究探究。
结果发现，这两方面，弘芯项目都有很多的元素需要得到进一步的厘清。那台光刻机真是「大陆唯一7nm光刻机」吗？项目到底缘何竟至于停摆的？在这个政府恨不得举全国之力投入半导体产业发产的特殊时期，究竟有多少克服不了的困难，竟导致一个投资如此重大、受到政府和业界如此高期望的重点项目不得不停摆？
在针对这各个问题展开内容之前，我们先来大致回顾一下这个项目的概况。
号称投资千亿的武汉弘芯什么情况？
武汉弘芯全称为「武汉弘芯半导体制造有限公司」，成立于2017年11月，总部位于武汉临空港经济技术开发区。
据财新网8月24日报道，武汉市东西湖区政府在7月30日发布的《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》文件中披露，武汉弘芯项目存在较大资金缺口，随时面临资金链断裂导致项目停滞的风险。武汉弘芯项目投资超千亿，运行已近三年。目前，该项目基本停滞，剩余1123亿元投资预期难以在今年申报。
而综合前期多家媒体报道，停摆的弘芯项目还有一个非常抓人眼球的内容：它抵押了「大陆唯一7nm光刻机」。
截图自弘芯半导体官网
弘芯半导体制造产业园曾是2018年武汉单个最大投资项目。该半导体项目在武汉市2020年市级重大在建项目计划中位居第一，总投资额第一。
弘芯项目分为两期，一期总投资额520亿元，2018年初开工，2019年7月厂房主体结构封顶。二期投资额760亿元，2018年9月开工，目前本应在建。两期共计投资1280亿元的弘芯，截至2019年底已累计完成投资153亿元，原本预计2020年将完成投资额87亿元。
而据弘芯官网介绍，弘芯汇聚了来自全球半导体晶圆研发与制造领域的专家团队（包括背景深厚的总经理兼首席执行官——蒋尚义，他在台积电任职10多年并曾担任CTO，是创始人张忠谋最为重视的研发人物之一），拥有丰富的14纳米及7纳米以下节点FinFET先进逻辑工艺与晶圆级先进封装技术经验。总投资额约200亿美元，主要投资项目包括：
一、预计建成14纳米逻辑工艺生产线，总产能达每月30000片；
二、预计建成7纳米以下逻辑工艺生产线，总产能达每月30000片；
三、预计建成晶圆级先进封装生产线。
据《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》文件指出，目前该项目一期主要生产厂房、研发大楼（总建筑面积39万m2）均已封顶或完成。
一期生产线300余台套设备均在有序订购，陆续进厂。国内唯一能生产7纳米芯片的核心设备ASML高端光刻机已入厂。但项目存在较大资金缺口，随时面临资金链断裂导致项目停滞的风险。
二期用地一直未完成土地调规和出让。因项目缺少土地、环评等支撑资料，无法上报国家发改委窗口指导，导致国家半导体大基金、其他股权基金无法导入。
「大陆唯一7nm光刻机」之误
第一次看到「大陆唯一7nm光刻机被抵押」这个元素的时候，笔者的第一反应不是痛惜，而是好奇，市场传言不是说中芯国际订购有一台「7nm光刻机」却迟迟无法拿到手吗？既然中芯国际同样「7nm」的光刻机无法拿到手，同为中国企业的武汉弘芯为何就能拿到？难不成弘芯是民营资本投资的？而且与此同时，在芯片代工这个重要的领域，在荷兰政府及美国政府对光刻机交易掌握着决定权的情况下，国内的民营资本相对国资有了翻身待遇？
对于这种推测，笔者有不可忽视的疑问。然而，事实证明，事情并非如相关媒体同行和笔者所认为的那样。
我们先来看看那台被抵押的「大陆唯一7nm光刻机」是什么情况。
据天眼查信息显示，早在2020年1月，武汉弘芯就已向湖北省武汉市西湖区市场监督管理局登记了一项动产抵押，数额为58180．86万元（5．8亿多）。这项不动产抵押的，是ASML光刻机。
截图自天眼查网站
不过，这台「全新尚未雇用」的「ASML扫描式光刻机」，规格型号为「TWINSCAN NXT：1980Di」。
截图自ASML网站
查询ASML官网可知，TWINSCAN NXT：1980Di光刻机属于DUV光刻机，是一种「高生产效率的双阶段浸没式光刻工具，旨在于10nm以下的节点批量生产300mm晶圆」。它采用193nm的ArFi光源，解析度≤ 38nm，数值孔径NA可达1．35，每小时至少能处理275片以上的晶圆。
据业界人士表示，该机型只是普通ASML浸润式光刻机，利用这种光刻机，通过双重曝光，最好的情况下可以生产14nm工艺芯片。而这种光刻机，国内至少有20台。
知乎上关于弘芯停摆事件的讨论，截图自知乎
相对于DUV光刻机而言，目前市面上最先进的光刻机是EUV光刻机（TWINSCAN NXT：1980Di甚至不是最「最优秀」的DUV光刻机），如果弘芯项目中所提到的、已入场的「国内唯一能生产7纳米芯片的核心设备ASML高端光刻机」为真，那么它即便不是EUV光刻机，似乎也不应该是被抵押的这台TWINSCAN NXT：1980Di型号的DUV光刻机。
而搜索TWINSCAN NXT：1980Di型号的光刻机，笔者找到一篇标题为《总投资387亿！上海最大集成电路项目计划月产能4万片芯片》的新闻，它发表于2018年5月22日，文章里提到：「此次搬入的首台工艺设备为荷兰阿斯麦公司的NXT1980Di光刻机，是目前中国大陆集成电路生产线上最先进的浸没式光刻机」。
那么问题又来了，上述这个上海项目是2018年5月引入的TWINSCAN NXT：1980Di型号的光刻机，号称是「目前中国大陆集成电路生产线上最先进的浸没式光刻机」。而武汉弘芯则到2019年12月22日才为「首台高端光刻机设备进厂」举行了「隆重的」的进厂仪式。
武汉弘芯为之举行进厂仪式的是否就是那台一个月后被抵押的TWINSCAN NXT：1980Di型号的光刻机？如果是，那么即便在它刚进厂时它也早就不是「中国大陆最先进」的光刻机了。同时，1个月后就须要抵押这台光刻机来解决资金问题的企业，应该不至于再有财力去引进更先进的光刻机设备了吧？如果不是，那我们先猜测它就是《上半年东西湖区投资建设领域经济运行分析》文件所提及的一期生产线中入厂的「国内唯一能生产7纳米芯片的核心设备ASML高端光刻机」。如果是这样的话，1个月后，弘芯为了解决资金问题，抵押了一台并非自家最先进的光刻机设备？而最先进的「7纳米芯片的核心设备」则还在掌握在弘芯自己手中？这些都需要弘芯等当事方出面向市场澄清。
